高溫高壓法(HPHT):該方法是在高溫(1300 - 1500℃)和高壓(5 - 7GPa)的條件下,以石墨為原料,通過催化劑的作用,使石墨的碳原子重新排列形成金剛石。這種方法制備的金剛石顆粒較大,質量較高,常用于工業生產寶石級金剛石和大顆粒金剛石磨料。
化學氣相沉積法(CVD):利用氣態的碳源(如甲烷、乙炔等)在高溫和催化劑的作用下分解,碳原子在基底表面沉積并逐漸生長形成金剛石薄膜。CVD 法可以在各種形狀的基底上生長金剛石,制備的金剛石薄膜具有良好的附著力和均勻性,廣泛應用于電子、光學等領域。
天然石墨提純:天然石墨礦經過選礦、浮選等工藝,去除其中的雜質,提高石墨的純度。常用的提純方法有化學提純法和物理提純法,化學提純法主要利用酸堿等化學試劑去除雜質,物理提純法則通過高溫煅燒、重選等方法實現。
人造石墨制備:以石油焦、瀝青焦等為原料,經過高溫煅燒、石墨化處理等工藝制備人造石墨。在高溫下,原料中的碳原子逐漸排列成石墨的層狀結構,通過控制工藝參數,可以制備出不同性能的人造石墨,如高純度石墨、高導熱石墨等。
工業加工領域:由于其極高的硬度和耐磨性,金剛石被廣泛應用于切削刀具、磨削工具、鉆探鉆頭等。例如,金剛石刀具在精密加工領域能夠實現高精度、高效率的加工,提高產品質量和生產效率;金剛石鉆頭在石油、地質勘探等領域能夠快速鉆進堅硬的巖石地層。
電子領域:金剛石的高導熱性、高絕緣性以及良好的光學性能使其在電子器件中具有重要應用。例如,金剛石散熱片可以有效解決高功率電子器件的散熱問題,提高器件的性能和可靠性;金剛石薄膜還可用于制造高頻率、高效率的電子元件,如射頻器件、探測器等。
光學領域:金剛石具有優異的光學性能,如高折射率、低色散等,可用于制造光學窗口、激光器件等。金剛石光學窗口在惡劣環境下具有良好的透光性和穩定性,廣泛應用于航空航天、軍事等領域。
電極材料:石墨良好的導電性和化學穩定性使其成為電池電極、電解池電極等的理想材料。在鋰離子電池中,石墨作為負極材料,能夠可逆地嵌入和脫出鋰離子,實現電池的充放電過程。
潤滑領域:由于其層間容易滑動的特性,石墨常被用作潤滑劑,可制成石墨粉、石墨潤滑脂等。在高溫、高壓等特殊工況下,石墨潤滑劑能夠發揮良好的潤滑作用,減少機械部件之間的摩擦和磨損。
耐火材料:石墨的耐高溫性能使其在耐火材料領域得到廣泛應用,如制造煉鋼爐的爐襯、坩堝等。石墨耐火材料能夠承受高溫的侵蝕,保證冶煉過程的順利進行。